Method Parameter Settings

The method parameter settings are available via right click on the active area of the grafical user interface.

表: メソッドパラメータの設定
	注入量注入量フィールドで、注入量（単位：µL）を指定します。注入量リミットは、オートサンプラの［コンフィグレーション設定］で異なります。［前処理/インジェクタプログラム］が定義された場合、この注入量の設定は無視されることに注意してください。
	ニードル洗浄ニードル洗浄付き注入を指定するには、ニードル洗浄を有効チェックボックスをオンにしてください。以下の洗浄パラメータを指定できます。モード：下矢印をクリックし、リストからニードル洗浄モードを選択して、洗浄位置を選択します。［フラッシュポート］（デフォルト位置）または［洗浄バイアル］から選択できます。時間：［フラッシュポート］を選択した場合のみ、このフィールドが有効になります。フラッシュ時間を 1 ～ 100 秒（1 秒単位）で指定します。ロケーション：［洗浄バイアル］を選択した場合のみ、有効になります。バイアル X という書式で洗浄バイアルの位置を指定できます。ここで X はバイアル番号です。P<プレート番号>-<行記号><列番号> という書式でウェルロケーションを指定します（例：P1-A1）。<行記号> と <列番号> の値は、ウェルプレートのタイプによって異なります。繰り返し：［洗浄バイアル］を選択した場合のみ、使用できます。最大 10 回までの繰り返し洗浄を指定できます。
	終了時間：分析を終了する時間を設定できます。リミット：0.01 ～ 99999 分またはポンプと同期/制限なしポストタイム：ポストタイムの間は、次の分析の開始を遅らせるために、バイアルサンプラはポストラン状態のままになります。ポストタイムの間に、溶媒組成を変更した後（グラジエント溶出後など）のカラムを平衡化できます。リミット：0.01 ～ 99999 分またはオフ。
	Aux 設定吸引速度：プランジャーがバイアルからサンプルを吸引する際の速度を決定します。この速度は、サンプルに適した値に設定します。粘性の高いサンプルを使用する場合は、［吸引速度］を低く設定します。吐出速度：プランジャーがメタリングデバイスからサンプルを吐出する際の速度を指定します。大量のサンプルを注入する場合、［吐出速度］を速く設定すると注入サイクルに必要な時間が短縮されます。粘性の高いサンプルをマルチ注入と組み合わせて使用する場合は、遅い［吐出速度］を使用してください。吸引後待機時間：サンプルバイアルから液体を吸引する際に生じる一時的な真空状態を確実に解消します。最初に、ニードルは指定された時間シート上に留まり、バイアルからサンプルを吸引した後、指定された時間そこに留まります。ニードル高さオフセット：ニードルを基準から指定の距離（mm）だけ離して配置する、垂直方向のオフセットです。［オフセット］機能は、とても少ないサンプル容量を分析するとき、あるいは最上層などサンプルの特定の部分のみが必要なときに役立ちます。
	ハイスループットディレイボリューム低減用にインジェクタバルブをバイパスに切り替え：このチェックボックスをオンにすると、注入が行われた後にインジェクタからの流路がメインパスからバイパスに切り替わります。低容量分析の際にディレイボリュームを低減することができます。サンプルフラッシュアウト係数を設定すると、分析中にバルブをバイパスに切り替えるタイミングを指定できます。サンプルフラッシュアウト係数：シリンジからキャピラリシートとバルブを通してサンプルを完全にフラッシュアウトすることができます。［サンプルフラッシュアウト係数］は、デフォルトで 5.0 に設定されています。デフォルトの［サンプルフラッシュアウト係数］は、多くの場合に適正です。粘性が著しく高いサンプルの場合は、サンプルのキャリーオーバーを防ぐために［サンプルフラッシュアウト係数］の値を大きくして、必要な程度のフラッシュを行ってください。オーバーラップ注入モード：現在の注入の実行中に次の注入が準備されるため、サンプルのスループットが高速になります。ドロップダウンリストから以下のオプションを選択できます。オフ：オーバーラップ注入をオフに切り替えます。［サンプルのフラッシュアウト後］を選択すると、現在のサンプルのフラッシュアウトが完了した直後に次のサンプルが準備されます。バイアルの準備：現在のサンプルの分析中に、グリッパが次のサンプルを準備します。オーバーラップ注入周期：現在のサンプルの分析中に次のサンプルを準備し、サンプルループの中に取り込みます。この処理を開始する注入後の時間（単位：分）を指定します。

注記

For additional help and support, highlight the desired area in the user interface and press the F1 key. A help screen will open with additional information and documentation about the topic.

21-6月-2025

	注入量注入量フィールドで、注入量（単位：µL）を指定します。注入量リミットは、オートサンプラの［コンフィグレーション設定］で異なります。［前処理/インジェクタプログラム］が定義された場合、この注入量の設定は無視されることに注意してください。
	ニードル洗浄ニードル洗浄付き注入を指定するには、ニードル洗浄を有効チェックボックスをオンにしてください。以下の洗浄パラメータを指定できます。モード：下矢印をクリックし、リストからニードル洗浄モードを選択して、洗浄位置を選択します。［フラッシュポート］（デフォルト位置）または［洗浄バイアル］から選択できます。時間：［フラッシュポート］を選択した場合のみ、このフィールドが有効になります。フラッシュ時間を 1 ～ 100 秒（1 秒単位）で指定します。ロケーション：［洗浄バイアル］を選択した場合のみ、有効になります。バイアル X という書式で洗浄バイアルの位置を指定できます。ここで X はバイアル番号です。P<プレート番号>-<行記号><列番号> という書式でウェルロケーションを指定します（例：P1-A1）。<行記号> と <列番号> の値は、ウェルプレートのタイプによって異なります。繰り返し：［洗浄バイアル］を選択した場合のみ、使用できます。最大 10 回までの繰り返し洗浄を指定できます。
	終了時間：分析を終了する時間を設定できます。リミット：0.01 ～ 99999 分またはポンプと同期/制限なしポストタイム：ポストタイムの間は、次の分析の開始を遅らせるために、バイアルサンプラはポストラン状態のままになります。ポストタイムの間に、溶媒組成を変更した後（グラジエント溶出後など）のカラムを平衡化できます。リミット：0.01 ～ 99999 分またはオフ。
	Aux 設定吸引速度：プランジャーがバイアルからサンプルを吸引する際の速度を決定します。この速度は、サンプルに適した値に設定します。粘性の高いサンプルを使用する場合は、［吸引速度］を低く設定します。吐出速度：プランジャーがメタリングデバイスからサンプルを吐出する際の速度を指定します。大量のサンプルを注入する場合、［吐出速度］を速く設定すると注入サイクルに必要な時間が短縮されます。粘性の高いサンプルをマルチ注入と組み合わせて使用する場合は、遅い［吐出速度］を使用してください。吸引後待機時間：サンプルバイアルから液体を吸引する際に生じる一時的な真空状態を確実に解消します。最初に、ニードルは指定された時間シート上に留まり、バイアルからサンプルを吸引した後、指定された時間そこに留まります。ニードル高さオフセット：ニードルを基準から指定の距離（mm）だけ離して配置する、垂直方向のオフセットです。［オフセット］機能は、とても少ないサンプル容量を分析するとき、あるいは最上層などサンプルの特定の部分のみが必要なときに役立ちます。
	ハイスループットディレイボリューム低減用にインジェクタバルブをバイパスに切り替え：このチェックボックスをオンにすると、注入が行われた後にインジェクタからの流路がメインパスからバイパスに切り替わります。低容量分析の際にディレイボリュームを低減することができます。サンプルフラッシュアウト係数を設定すると、分析中にバルブをバイパスに切り替えるタイミングを指定できます。サンプルフラッシュアウト係数：シリンジからキャピラリシートとバルブを通してサンプルを完全にフラッシュアウトすることができます。［サンプルフラッシュアウト係数］は、デフォルトで 5.0 に設定されています。デフォルトの［サンプルフラッシュアウト係数］は、多くの場合に適正です。粘性が著しく高いサンプルの場合は、サンプルのキャリーオーバーを防ぐために［サンプルフラッシュアウト係数］の値を大きくして、必要な程度のフラッシュを行ってください。オーバーラップ注入モード：現在の注入の実行中に次の注入が準備されるため、サンプルのスループットが高速になります。ドロップダウンリストから以下のオプションを選択できます。オフ：オーバーラップ注入をオフに切り替えます。［サンプルのフラッシュアウト後］を選択すると、現在のサンプルのフラッシュアウトが完了した直後に次のサンプルが準備されます。バイアルの準備：現在のサンプルの分析中に、グリッパが次のサンプルを準備します。オーバーラップ注入周期：現在のサンプルの分析中に次のサンプルを準備し、サンプルループの中に取り込みます。この処理を開始する注入後の時間（単位：分）を指定します。